| 标题 |
Absolute EUV reflectivity measurements using a broadband high-harmonic source and an in situ single exposure reference scheme 使用宽带高次调和源和现场单次曝光参考方案进行绝对极紫外反射率测量
相关领域
极紫外光刻
极端紫外线
光学
同步辐射
材料科学
吸收(声学)
光谱学
反射(计算机编程)
同步加速器
物理
激光器
量子力学
计算机科学
程序设计语言
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Optics Express 作者:Johann J. Abel; Felix Wiesner; Jan Nathanael; Julius Reinhard; Martin Wünsche; et al 出版日期:2022-08-03 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)