Molecular Layer Deposited Aluminum‐Based Hybrid Resist for High‐Resolution Nanolithography and Direct Ultra‐High Aspect Ratio Pattern Transfer

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标题	Molecular Layer Deposited Aluminum‐Based Hybrid Resist for High‐Resolution Nanolithography and Direct Ultra‐High Aspect Ratio Pattern Transfer
网址	http://dx.doi.org/10.1002/admt.202501639
DOI	10.1002/admt.202501639 doi
其它	期刊：Advanced Materials Technologies 作者：Won‐Il Lee; Dan N. Le; Matthew Yen; Melinda Lin; Ashwanth Subramanian; et al 出版日期：2025-11-26
求助人	樊珩在 2026-09-29 23:37:22 发布自上海，悬赏 10 积分
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