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标题
Optimization of the EUV mask structures for mitigating the forbidden pitch in 5nm node
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2622286
DOI
10.1117/12.2622286 doi
其它 期刊：
作者：Ling Ma; Lisong Dong; Taian Fan; Yayi Wei
出版日期：2022-04-22
求助人
赌书泼茶 在 2026-01-05 11:04:29 发布自北京，悬赏 20 积分
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