| 标题 |
 Effects of Process Gas Pressure on Properties of WO3 Thin Films Deposited by RF Sputtering 相关领域
溅射
材料科学
薄膜
气体压力
过程（计算）
光电子学
分析化学（期刊）
纳米技术
化学
计算机科学
工程类
色谱法
石油工程
操作系统
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Physical Chemistry C 作者：R. Matsuo; Tomoyuki Yamasaki; Issei Suzuki; Sakiko Kawanishi; Takahisa Omata 出版日期：2024-12-31 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
Copyright
cdercder
Nole
大力的冬萱
潇洒的惋清
Criminology34
挣积分换文献的大飞
arniu2008
liuzhuohao
行走的荷尔蒙
key
明亮尔蓝
愉快的真
美好斓
whisper
风清扬
小荷才露尖尖角
Avalonx
Oracle
皖公网安备34019202002308
