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标题
Equivalent oxide thickness scalability of Zr-rich ZrHfO2 thin films by Al-doping
Al掺杂富ZrHfO2薄膜的等效氧化物厚度可扩展性
相关领域
材料科学 电容器 兴奋剂 德拉姆 电介质 等效氧化层厚度 小型化 动态随机存取存储器 光电子学 氧化物 泄漏（经济） 薄膜 缩放比例 纳米技术 晶体管 栅氧化层 电气工程 半导体存储器 电压 冶金 数学 工程类 宏观经济学 经济 几何学
网址
https://doi.org/10.1016/j.matlet.2022.132418
DOI
10.1016/j.matlet.2022.132418 doi
其它 期刊：Materials Letters
作者：Min Ji Jeong; Seungwon Lee; Hyo‐Bae Kim; Youkyoung Oh; Ju Hun Lee; et al
出版日期：2022-05-07
求助人
11234 在 2025-08-19 09:35:13 发布，悬赏 10 积分
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