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Light and elevated temperature induced degradation in gallium- and boron-doped hpmc-Si wafers studied by hyperspectral photoluminescence imaging 用高光谱光致发光成像研究镓和硼掺杂hpmc-Si晶片的光和高温诱导降解
相关领域
光致发光
高光谱成像
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镓
降级(电信)
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兴奋剂
硼
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期刊:AIP conference proceedings 作者:Torbjørn Mehl; Oda Goa Berge; I. Burud; Rune Søndenå; Espen Olsen 出版日期:2023-01-01 |
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