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 Electroless chemical etching of silicon in aqueous NH4F/AgNO3/HNO3 solution 硅在NH4F/AgNO3/HNO3水溶液中的化学化学刻蚀
相关领域
水溶液
蚀刻（微加工）
硅
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化学
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工程类
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期刊：Applied Surface Science 作者：Nacéra Megouda; Toufik Hadjersi; Sabine Szunerits; Rabah Boukherroub 出版日期：2013-08-17 |
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