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标题
In-situ PECVD-based stoichiometric SiO2 layer for semiconductor devices
用于半导体器件的原位PECVD化学计量SiO2层
相关领域
钝化 等离子体增强化学气相沉积 化学计量学 硅烷 半导体 化学气相沉积 图层(电子) 材料科学 薄脆饼 光电子学 分析化学(期刊) 化学工程 纳米技术 化学 复合材料 物理化学 有机化学 工程类
网址
DOI
10.1016/j.optmat.2023.113536 doi
其它 期刊:Optical Materials
作者:Duy Phong Pham; Hongrae Kim; Ji Won Choi; Donghyun Oh; Yung-Bin Chung; et al
出版日期:2023-02-01
求助人
迅速的山河 在 2025-06-12 14:36:27 发布自浙江,悬赏 10 积分
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