High-performance metal organic cluster resists for high-NA extreme ultraviolet lithography

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标题	High-performance metal organic cluster resists for high-NA extreme ultraviolet lithography
网址	https://doi.org/10.1117/12.3052190
DOI	10.1117/12.3052190 doi
其它	期刊：暂无作者：Manvendra Singh Chauhan; Neha Sharma; Kumar Palit; Ranbir Singh; Abhimanew Dhir; et al 出版日期：2025-04-22
求助人	樊珩在 2026-10-07 17:55:43 发布自上海，悬赏 20 积分
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