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Si-Ion Implantation Doping in β-Ga2O3and Its Application to Fabrication of Low-Resistance Ohmic Contacts |
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期刊:Applied Physics Express 作者:Kohei Sasaki; Masataka Higashiwaki; Akito Kuramata; Takekazu Masui; Shigenobu Yamakoshi 出版日期:2013-07-29 |
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