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 Remote plasma-enhanced chemical vapor deposition of GeSn on Si (100), Si (111), sapphire, and fused silica substrates Si（100）、Si（111）、蓝宝石和熔融石英衬底上GeSn的远程等离子体增强化学气相沉积
相关领域
材料科学
化学气相沉积
蓝宝石
等离子体
沉积（地质）
光电子学
化学工程
远程等离子体
纳米技术
光学
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物理
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古生物学
生物
量子力学
沉积物
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：B. Claflin; Gordon Grzybowski; Stefan Zollner; Bridget R. Rogers; Thomas Cooper; et al 出版日期：2024-08-20 |
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仁爱芮
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