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 Remote plasma-enhanced chemical vapor deposition of GeSn on Si (100), Si (111), sapphire, and fused silica substrates Si（100）、Si（111）、蓝宝石和熔融石英衬底上GeSn的远程等离子体增强化学气相沉积
相关领域
材料科学
化学气相沉积
蓝宝石
等离子体
沉积（地质）
光电子学
化学工程
远程等离子体
纳米技术
光学
激光器
古生物学
物理
量子力学
沉积物
生物
工程类
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：B. Claflin; Gordon Grzybowski; Stefan Zollner; Bridget R. Rogers; Thomas Cooper; et al 出版日期：2024-08-20 |
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