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 Control of Thickness and Composition Variation of AlGaN/GaN on 6- and 8-in. Substrates Using Multiwafer High-Growth-Rate Metal Organic Chemical Vapor Deposition Tool 6英寸和8英寸AlGaN/GaN厚度和成分变化的控制。使用多晶片高生长速率金属有机化学气相沉积工具的衬底
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yoshiki Yano; Hiroki Tokunaga; Hayato Shimamura; Yuya Yamaoka; Akinori Ubukata; et al 出版日期：2013-05-20 |
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