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标题
Degradation mechanism of SOI NMOS devices exposed to 60Co γ-ray at low dose rate
相关领域
NMOS逻辑 跨导 材料科学 阈值电压 辐照 绝缘体上的硅 光电子学 降级（电信） 剂量率 吸收剂量 电压 电气工程 硅 放射化学 晶体管 化学 物理 核物理学 工程类
网址
https://doi.org/10.7498/aps.61.246101
DOI
10.7498/aps.61.246101 doi
其它 期刊：Acta Physica Sinica
作者：Shang Huai-Chao; Hongxia Liu; Qingqing Zhuo
出版日期：2012-01-01
求助人
lilijiang 在 2025-10-13 15:13:20 发布自海南，悬赏 10 积分
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