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 Ferroelectric properties of full plasma-enhanced ALD TiN/La:HfO2/TiN stacks 全等离子体增强ALD TiN/La：HfO2/TiN叠层的铁电性能
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Аnna G. Chernikova; Dmitry S. Kuzmichev; D. V. Negrov; Maxim G. Kozodaev; S. N. Polyakov; et al 出版日期：2016-06-13 |
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