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Epitaxial Growth of ScAlN on (111) Si Via Molecular Beam Epitaxy 分子束外延法在(111)Si上外延生长ScAlN
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:Matthew T. Hardy; Andrew C. Lang; James L. Hart; Eric N. Jin; Neeraj Nepal; et al 出版日期:2024-12-23 |
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