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标题
Integration of Dielectric and Ferroelectric Hafnium Aluminum Oxides for Thin‐Film Transistor Applications
用于薄膜晶体管应用的介电和铁电铪铝氧化物的集成
相关领域
铁电性 材料科学 电容器 光电子学 电介质 栅极电介质 铁电电容器 退火（玻璃） 薄膜 晶体管 电压 电气工程 纳米技术 复合材料 工程类
网址
https://doi.org/10.1002/pssr.202070041
AI链接 wiley.comdoi.org
DOI
10.1002/pssr.202070041 doi
其它 期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters
作者：Hsiao‐Hsuan Hsu; Sheng Lee; Hsiu-Ming Liu
出版日期：2020-10-01
求助人
LY 在 2025-06-02 11:21:55 发布自福建，悬赏 10 积分
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  • 3天前

    科研通AI2.0 科研通AI2.0 机器人 未找到该文献，机器人已退出，请等待人工下载

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    11:21:55 科研通AI机器人（美国 洛杉矶）收到请求，开始寻找文献
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  • 3天前

    LY LY Lv2 求助人 发起了本次求助

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