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  Studies of Electrical Parameters and Thermal Stability of HiPIMS Hafnium Oxynitride (HfOxNy) Thin Films HiPIMS氮化铪（HfOxNy）薄膜的电学参数和热稳定性研究
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期刊：Materials 作者：Mirosław Puźniak; Wojciech Gajewski; Aleksandra Seweryn; Marcin T. Klepka; B.S. Witkowski; et al 出版日期：2023-03-22 |
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