Tungsten voids improvement by optimizing MOCVD-TiN barrier layer plasma treatment at 28 nm technology node - 科研通

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标题	Tungsten voids improvement by optimizing MOCVD-TiN barrier layer plasma treatment at 28 nm technology node
网址	https://www.semanticscholar.org/paper/9fe5f2dc267b169a7f761f...
DOI	10.1109/cstic.2017.7919809 doi
其它	期刊：China Semiconductor Technology International Conference 作者：Lin Gao; Yanyan Zhang; Yu Bao; Bin Zhong; Yingming Liu; et al 出版日期：2017-03-01
求助人	子不语在 2026-07-03 10:33:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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