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 Thermal-cyclic etching of SiGe with selective removal over Ge using fluorocarbon-based plasma and infrared heating 相关领域
X射线光电子能谱
蚀刻（微加工）
材料科学
分析化学（期刊）
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Kazunori Shinoda; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; K. Yokogawa; Masaru Izawa; Kenji Ishikawa; et al 出版日期：2026-01-12 |
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