| 标题 |
SiON-based antireflective coating for 193-nm lithography |
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| DOI |
10.1117/12.350160
doi
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| 其它 |
期刊:SPIE Proceedings 作者:Patrick Schiavone; C. Esclope; A. Halimaoui 出版日期:2003-11-21 |
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(2025-6-4)