| 标题 |
MRC for curvilinear mask shapes |
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| DOI |
10.1117/12.2575474
doi
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| 其它 |
期刊:Photomask Technology 2020 作者:Ingo Bork; Alexander Tritchkov; Shumay Shang; Evgueni Levine; Mary Zuo 出版日期:2020-10-15 |
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(2025-6-4)