| 标题 |
基于CF4等离子体二维流体模型的ICP刻蚀设备结构优化与工艺参数分析 |
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| DOI |
10.27012/d.cnki.gdhuu.2025.001362
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| 其它 | 作者:宋昊宇。 |
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(2025-6-4)