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[高分]
 The development of MOCVD techniques for ferroelectric and dielectric thin film depositions 相关领域
金属有机气相外延
铁电性
电介质
材料科学
薄膜
工程物理
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物理
外延
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期刊：Journal de Physique IV (Proceedings) 作者：T. Li; Shou-Ping Hsu 出版日期：2001-08-01 |
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