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[求助补充材料]
 3D NTD resist deformation compact model for OPC and ILT applications 用于OPC和ILT应用的3D NTD抗蚀剂变形紧凑模型
相关领域
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极紫外光刻
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光刻
光学接近校正
收缩率
计算机科学
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平版印刷术
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光电子学
复合材料
图层（电子）
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期刊： 作者：Kevin Lucas; Rich Wu; Delian Yang; Folarin Latinwo; Hua Song 出版日期：2018-10-08 |
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