Evolution of secondary defects in arsenic implanted Si

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标题	Evolution of secondary defects in arsenic implanted Si
网址	http://dx.doi.org/10.7567/jjap.55.045504
DOI	10.7567/jjap.55.045504 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：He Zhu; Miao Wang; Bingpo Zhang; Huizhen Wu; Yan Sun; et al 出版日期：2016-03-17
求助人	Arrebol 在 2026-10-31 17:18:39 发布自北京，悬赏 10 积分
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