Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect of Chain Conformation on Line-Edge Roughness Formation

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标题	Molecular Modeling of EUV Photoresist Revealing the Effect of Chain Conformation on Line-Edge Roughness Formation
网址	http://dx.doi.org/10.3390/polym11121923
DOI	10.3390/polym11121923 doi
其它	期刊：Polymers 作者：Juhae Park; Sung-Gyu Lee; Yannick Vesters; Joren Severi; Myungwoong Kim; et al 出版日期：2019-11-22
求助人	樊珩在 2026-09-30 00:09:14 发布自上海，悬赏 10 积分
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