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标题
宽禁带碳化硅晶片键合研究进展(特邀)
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DOI
10.3788/cjl250966 doi
其它 期刊:Chinese Journal of Lasers
作者:牛爽 Niu Shuang; 胡秀飞 Hu Xiufei; 吴东玥 Wu Dongyue; 杨勇 Yang Yong; 张木青 Zhang Muqing; et al
出版日期:2025-01-01
求助人
谯殿艺 在 2025-11-25 16:56:44 发布自天津,悬赏 10 积分
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