宽禁带碳化硅晶片键合研究进展(特邀)

作者
牛爽 Niu Shuang,胡秀飞 Hu Xiufei,吴东玥 Wu Dongyue,杨勇 Yang Yong,张木青 Zhang Muqing,陈秀芳 Chen Xiufang,王荣堃 Wang Rongkun,谢雪健 Xie Xuejian,徐现刚 Xu Xiangang
出处
期刊:Zhongguo jiguang [Science Press]
卷期号:52 (18): 1803008-1803008
标识
DOI:10.3788/cjl250966
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