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Photo-removal of sulfamethoxazole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch reactor under UV-C radiation (λmax=254nm) 相关领域
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期刊:Journal of Hazardous Materials 作者:Deniz Nasuhoglu; Viviane Yargeau; Dimitrios Berk 出版日期:2010-10-28 |
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