Photo-removal of sulfamethoxazole (SMX) by photolytic and photocatalytic processes in a batch reactor under UV-C radiation (λmax=254nm)

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作者
Deniz Nasuhoglu,Viviane Yargeau,Dimitrios Berk
出处
期刊:Journal of Hazardous Materials [Elsevier]
卷期号:186 (1): 67-75 被引量:173
标识
DOI:10.1016/j.jhazmat.2010.10.080
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