A review of the chemical reaction mechanism and kinetics for hydrofluoric acid etching of silicon dioxide for surface micromachining applications

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标题	A review of the chemical reaction mechanism and kinetics for hydrofluoric acid etching of silicon dioxide for surface micromachining applications
网址	https://doi.org/10.1016/0040-6090(93)90752-b
DOI	10.1016/0040-6090(93)90752-b doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：David J. Monk; David S. Soane; Roger T. Howe 出版日期：1993-09-01
求助人	勾勾云在 2026-08-10 16:39:09 发布自上海，悬赏 10 积分
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