Ferroelectricity in HfO2 thin films as a function of Zr doping

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标题	Ferroelectricity in HfO2 thin films as a function of Zr doping
网址	http://dx.doi.org/10.1109/vlsi-tsa.2017.7942488
DOI	10.1109/vlsi-tsa.2017.7942488 doi
其它	期刊：2017 International Symposium on VLSI Technology, Systems and Application (VLSI-TSA) 作者：Golnaz Karbasian; Ava Tan; Ajay Yadav; Eric Martin Henry Sorensen; Claudy Rayan Serrao; et al 出版日期：2017-04-01
求助人	1baby 在 2026-08-30 23:13:10 发布自山东，悬赏 10 积分
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