Study on the influence of hardmask morphology on substrate profile in plasma etching process

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标题	Study on the influence of hardmask morphology on substrate profile in plasma etching process
网址	https://www.semanticscholar.org/paper/e60856a3a9a735d70e49de...
DOI	10.1117/12.3050913 doi
其它	期刊：Advanced Lithography 作者：Yuzhang Lei; Ziyi Hu; Yuxuan Zhai; Hua Shao; Junjie Li; et al 出版日期：2025-04-22
求助人	迷你的灵槐在 2026-07-02 14:07:20 发布自浙江，悬赏 20 积分
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