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Investigation of Border Trap Characteristics in the AlON/GeO2/Ge Gate Stacks 相关领域
存水弯(水管)
材料科学
光电子学
物理
电气工程
工程类
气象学
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期刊:IEEE Transactions on Electron Devices 作者:Yujin Seo; Choong‐Ki Kim; Tae-In Lee; Wan Sik Hwang; Hyun‐Yong Yu; et al 出版日期:2017-08-29 |
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