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  Origin of ultralow thermal conductivity in amorphous Si thin films investigated using nanoindentation, 3ω method, and phonon transport analysis 用纳米压痕、3 ω法和声子输运分析研究非晶硅薄膜超低热导率的起源
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期刊：Applied Physics Express 作者：Daiki Tanisawa; Tetsuya Takizawa; Asato Yamaguchi; Hiroshi Murotani; Masayuki Takashiri 出版日期：2023-11-10 |
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