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Design and Optimization of a Heterojunction (Ge/Si) Vertical-Tunnel Field Effect Transistor (HV-TFET) with a Doped Bar for Low-Power Applications 低功耗掺杂棒异质结(Ge/Si)垂直隧道场效应晶体管(HV-TFET)的设计与优化
相关领域
异质结
巴(单位)
兴奋剂
隧道场效应晶体管
场效应晶体管
材料科学
功率(物理)
固体物理学
光电子学
晶体管
领域(数学)
工程物理
电气工程
凝聚态物理
工程类
物理
热力学
数学
电压
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纯数学
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期刊:Journal of Electronic Materials 作者:Pradeep Kumar Kumawat; Shilpi Birla; Neha Singh 出版日期:2024-05-24 |
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