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 Influence of CoSi Oxidation and Passivation During Silicide Selective Etching on Junction Leakage: Applications to Schottky Diodes Devices 硅化物选择性蚀刻过程中CoSi氧化和钝化对结泄漏的影响：在肖特基二极管器件中的应用
相关领域
材料科学
钝化
硅化物
光电子学
肖特基二极管
二极管
泄漏（经济）
蚀刻（微加工）
肖特基势垒
纳米技术
硅
图层（电子）
经济
宏观经济学
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：M. Grégoire; Barbara Guitton; Bastien Dury; Fabien Peyrot; Sophie Dreux; et al 出版日期：2024-05-22 |
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