Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium

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标题	Plasma enhanced atomic layer deposition and atomic layer etching of gallium oxide using trimethylgallium 三甲基镓等离子体增强原子层沉积和原子层刻蚀氧化镓相关领域三甲基镓原子层沉积蚀刻（微加工）反应离子刻蚀原子层外延材料科学镓等离子体刻蚀图层（电子）分析化学（期刊）干法蚀刻化学纳米技术外延金属有机气相外延冶金色谱法
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001871
DOI	10.1116/6.0001871 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Kevin Hatch; D. C. Messina; R. J. Nemanich 出版日期：2022-06-22
求助人	Aqua 在 2025-03-27 11:12:59 发布自重庆，悬赏 10 积分
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