SiO2 etch-damage mitigation in fluorocarbon C F plasma: CF polymer deposition and polyatomic ion effects

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标题	SiO2 etch-damage mitigation in fluorocarbon C F plasma: CF polymer deposition and polyatomic ion effects
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2025.164180
DOI	10.1016/j.apsusc.2025.164180 doi
求助人	www 在 2026-08-19 16:42:54 发布自福建，悬赏 10 积分
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