Study of mask error enhancement factor improvement with low-n absorber extreme ultraviolet lithography mask

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标题	Study of mask error enhancement factor improvement with low-n absorber extreme ultraviolet lithography mask
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.23.4.044401
DOI	10.1117/1.jmm.23.4.044401 doi
其它	期刊：Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology 作者：Yosuke Takahata; Tatiana Kovalevich; Danilo De Simone; Yusuke Tanaka; Vicky Philipsen 出版日期：2024-10-17
求助人	大知闲闲在 2026-06-18 16:04:10 发布自湖北，悬赏 40 积分
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