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High-resolution study of the x-ray resonant Raman scattering process around the1sabsorption edge for aluminium, silicon, and their oxides |
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期刊:Physical Review A 作者:J. Szlachetko; J.-Cl. Dousse; M. Berset; K. Fennane; M. Szlachetko; et al 出版日期:2007 |
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