| 标题 |
  An Improved Algorithm to Extract Moiré Fringe Phase for Wafer-Mask Alignment in Nanoimprint Lithography 纳米压印光刻中晶圆掩模对准莫尔条纹相位提取的改进算法
相关领域
快速傅里叶变换
纳米压印光刻
平版印刷术
傅里叶变换
窗口函数
算法
高斯分布
光学
薄脆饼
材料科学
云纹
相（物质）
计算机科学
滤波器（信号处理）
光电子学
物理
计算机视觉
医学
量子力学
制作
病理
替代医学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Micromachines 作者：Feifan Xu; Yinye Ding; Wenhao Chen; Haojie Xia 出版日期：2024-11-22 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
cdercder
无极微光
dde
Rainyin
AllRightReserved
HFH
张欢馨
科研狗
猪猪hero
嘻嘻哈哈
arniu2008
蓝天
OK
殷勤的紫槐
乐空思
Floy
eric888
栗子
贪玩的秋柔
GingerF
皖公网安备34019202002308
