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  An Improved Algorithm to Extract Moiré Fringe Phase for Wafer-Mask Alignment in Nanoimprint Lithography 纳米压印光刻中晶圆掩模对准莫尔条纹相位提取的改进算法
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期刊：Micromachines 作者：Feifan Xu; Yinye Ding; Wenhao Chen; Haojie Xia 出版日期：2024-11-22 |
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