Positive and Negative Dual-Type Hafnium-Based Hybrid Dry Photoresist for Nanolithography

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标题	Positive and Negative Dual-Type Hafnium-Based Hybrid Dry Photoresist for Nanolithography
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5c23910
DOI	10.1021/acsami.5c23910 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Xingkun Wang; Yutao Xu; Ou Zhang; Hong Dong; Xiaolei Sun; Feng Luo 出版日期：2026
求助人	橙子在 2026-02-28 15:55:49 发布自江西，悬赏 10 积分
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