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 Controlled preparation of tungsten diselenide thin films via chemical vapor deposition 化学气相沉积控制制备二硒化钨薄膜
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Pingfan Ning; Xuerong Li; Feifei Lan; Xiangyu Li; Yingmin Wang; et al 出版日期：2025-04-01 |
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