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标题
Plasma atomic layer etching using conventional plasma equipment
相关领域
钝化 蚀刻(微加工) 微电子 等离子体 图层(电子) 感应耦合等离子体 材料科学 等离子体刻蚀 制作 等离子体处理 反应离子刻蚀 光电子学 纳米技术 病理 物理 医学 量子力学 替代医学
网址
DOI
10.1116/1.3021361 doi
其它 Ankur Agarwal;
Mark J. Kushner
求助人
小昭 在 2026-01-06 16:37:40 发布自天津,悬赏 10 积分
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