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Effect of top electrode on interfacial layer formation and polarization switching kinetics in post-deposition annealed Hf0.5Zr0.5O2 capacitors |
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期刊:Current Applied Physics 作者:Yu Bin Park; Tae Hyun Jung; Beomjun Kim; Jeonglyul Kim; Jung Kyu Lee; et al 出版日期:2026 |
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(2025-6-4)