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Morphology and chemical termination of HF-etched Si3N4 surfaces
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DOI
10.1063/1.4905282 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Li-Hong Liu; William J. I. Debenedetti; Tatiana Peixoto; Sumeyra Gokalp; Natis Shafiq; et al
出版日期:2014-12-30
求助人
lqy1214 在 2026-10-25 12:12:20 发布自江苏,悬赏 10 积分
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