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Investigation of degradation and recovery characteristics of NBTI in 28-nm high-k metal gate process |
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期刊:Chinese Physics B 作者:Wei-Tai 伟泰 Gong 巩; Yan 闫 Li 李; Ya-Bin 亚宾 Sun 孙; Yan-Ling 艳玲 Shi 石; Xiao-Jin 小进 Li 李 出版日期:2023-06-21 |
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(2025-6-4)