Analysis for roughness-generation mechanism in Ru etching using Cl2/O2-based plasma for advanced interconnect

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标题	Analysis for roughness-generation mechanism in Ru etching using Cl2/O2-based plasma for advanced interconnect
网址	https://pubs.aip.org/avs/jvb/article-pdf/doi/10.1116/6.00049...
DOI	10.1116/6.0004927 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B 作者：Miyako Matsui; Tomoyasu Shohjoh; Makoto Miura; Kenichi Kuwahara 出版日期：2025-11-25
求助人	77 在 2026-06-05 15:11:54 发布自福建，悬赏 10 积分
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