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 Synergistic Effect of Plasma Discharge and Substrate Temperature in Improving the Crystallization of $$\hbox {TiO}_2$$ TiO 2 Film by Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 相关领域
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期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Yu Xu; Yu Zhang; Linjun Li; Ke Ding; Ying Guo; et al 出版日期：2019-02-15 |
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